真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較，具有下列優(yōu)點： (1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。 (2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。 (3)薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固。 (4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。 真空鍍膜技術主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。除化學氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點： (1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大 量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不良影響。 (2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進，大大擴大了制膜材料的 選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，而且還可以同時蒸鍍不同材 料而得到多層膜。 (3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。 -----超硬面熱噴涂廠家

(1)外觀 因為鍍鋁膜具有很高的金屬光澤和良好的反射性，在軟包裝中使用鍍鋁膜，能夠與油墨形成強烈的色彩反差。增加光線的反射，使包 裝產(chǎn)生非常奪目的光學效果，增加產(chǎn)品的美觀程度。 (2)阻隔性 薄膜經(jīng)過真空鍍鋁后，能大大提高薄膜材料的阻隔性，對于一些需要延長保存期的產(chǎn)品，使用真空鍍鋁膜的軟包裝是一個不錯的選擇 。 (3)低成本及良好的加工性能 與鋁箔相比，VMPET有較大的價格優(yōu)勢。成本只相當于鋁箔的一半。 鍍鋁薄膜基材具有良好的物理機械性能。

在復合加工中不容易出現(xiàn)扭曲、皺折、斷裂等現(xiàn)象，有利于提高生產(chǎn)效率和合格品率；鍍鋁 膜具有導電性，在加工過程中可以避免因靜電所造成的質量問題或故障，便于安全生產(chǎn)，特別是在包裝粉狀物品時，因為鍍鋁膜能夠 起到消除靜電的作用，保證了封口性能的良好性。 (4)符合環(huán)保要求 鍍鋁產(chǎn)品消耗的主要能源是電力，在生產(chǎn)過程中不會產(chǎn)生廢水、廢氣，作為殘留物的氧化鋁可以回收再利用。另外鍍鋁時，沉積在鍍 鋁膜表面的鋁非常少(一般只有350～400埃)，因此可以認為沒有改變其基材的本質。從環(huán)保的角度看，已鍍過鋁的薄膜可作為一種“ 單一材料”，所以它們可以更容易地被分裂，以循環(huán)生產(chǎn)或焚燒處理。 (4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質量分數(shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質量分數(shù)降低到小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現(xiàn)的。----PVD真空鍍膜廠家