PVD真空鍍膜設(shè)備的注意事項(xiàng)：開機(jī)時(shí)要先檢查真空電鍍?cè)O(shè)備水路的暢通性，確定真空電鍍?cè)O(shè)備冷卻塔、真空泵是否正常工作，檢查真空電鍍?cè)O(shè)備氣路是否暢通，確定真空電鍍?cè)O(shè)備空壓機(jī)是否正常工作。真空電鍍?cè)O(shè)備所鍍制的氮化鋯是一種淺黃色的膜層，真空電鍍?cè)O(shè)備適用于某些氮化鈦不太適合涂覆的領(lǐng)域。真空電鍍?cè)O(shè)備具有高抗腐蝕性能，良好的光滑表面以及延展性。

   PVD真空鍍膜設(shè)備是一種銀灰色的膜層，真空電鍍?cè)O(shè)備具有良好的附著性以及良好的耐腐蝕性和耐氧化性。真空電鍍?cè)O(shè)備能夠增強(qiáng)它們的潤(rùn)滑性和耐磨損性。目前真空電鍍?cè)O(shè)備常見的顏色主要有：深金黃色，淺金黃色，藍(lán)色等。

     基體資料的外表狀況是影響掩蓋才能的主要要素之一。實(shí)習(xí)標(biāo)明，金屬在不一樣基體資料上電堆積時(shí)，同一鍍液的掩蓋才能不一樣也很大。如用鉻酸溶液鍍鉻，金屬鉻在銅、鎳、黃銅和鋼上堆積時(shí)，鍍液的掩蓋才能順次遞減。

    這是因?yàn)楫?dāng)金屬離子在不一樣的基體資料上復(fù)原堆積時(shí)，其過(guò)電位的數(shù)值有很大的不一樣。過(guò)電位較小的分出電位較正，即便在電流密度較低的部位也能到達(dá)其分出電位的數(shù)值，因而其掩蓋才能較好。基體資料的外表狀況對(duì)掩蓋才能的影響比較復(fù)雜。

     PVD真空鍍膜鍍層與基體之間的結(jié)合力、防腐性能和外觀質(zhì)量的好壞，與零部件鍍前表面處理的優(yōu)劣有著直接關(guān)系。附著于零件表面的油、銹、氧化皮等污物，就是妨礙電鍍液與金屬基體充分接觸的中間障礙物，在這種表面上不可能形成合格的電鍍層。當(dāng)鍍件上附著極薄的甚至肉眼看不見的油膜和氧化膜時(shí)，雖然得到外觀正常、結(jié)晶細(xì)致的鍍層，但是結(jié)合強(qiáng)度大為降低。